høj renhed 99,998% disilansil2h6 gas

centrale træk

• ultrahøj renhed: Vores disilane-gas har et renhedsniveau på 99,998%, hvilket sikrer minimale urenheder, der kan kompromittere integriteten afelektroniskudstyr.
• konsekvent kvalitet: fremstillet under strenge kvalitetskontrolprocesser, giver vores gas en ensartet ydeevne batch efter batch.
• mangfoldig emballage: tilgængelig i forskellige emballagemåder, der passer til forskellige opbevarings- og transportbehov.
• sikker håndtering: udstyret med sikkerhedsforanstaltninger, der forhindrer lækager og sikrer sikker håndtering under brug.
• miljøbevidst: forpligtet til bæredygtige metoder, minimerer vores produktionsmetoder miljøpåvirkningen.

ansøgninger

"Høj renhed 99,998% disilansil2h6-gas" anvendes i en lang række anvendelser inden for elektronikindustrien:

• Fremstilling af halvledere: som et nøglereaktor i produktionen af halvledere på siliciumbasis, hvilket øger enhedens ydeevne og effektivitet.
• Tynfilm aflejring: anvendes i kemiske dampdepositioner (CVD) til at skabe tynde film med præcise tykkelse og ensartethed.
• mikroelektronik: integreret i fremstillingen af mikroelektroniske komponenter, hvilket bidrager til deres miniaturisering og funktionalitet.
• Fotovoltaiske celler: er afgørende for produktionen af højeffektive solcelleceller til solenergianvendelser.
• forskning og udvikling: en hovedbestanddel i F&U-laboratorier til udforskning af nye materialer og teknologier.

nøgleattributter