hochreines 99,998% disilane Si2h6 Gas

Hauptmerkmale

• mit einer Reinheit von: Unser Disilangas weist einen Reinheitsgrad von 99,998 % auf und gewährleistet minimale Verunreinigungen, die die Integrität vonelektronischeGeräte.
• gleichbleibende Qualität: Hergestellt unter strengen Qualitätskontrollverfahren, bietet unser Gas eine gleichbleibende Leistung Charge für Charge.
• Versatile Verpackung: in verschiedenen Verpackungsmöglichkeiten erhältlich, um den unterschiedlichen Lagerung- und Transportbedürfnissen gerecht zu werden.
• sichere Handhabung: mit Sicherheitsvorrichtungen ausgestattet, um Lecks zu verhindern und eine sichere Handhabung während des Gebrauchs zu gewährleisten.
• Umweltbewusstsein: unsere Produktionsmethoden minimieren die Auswirkungen auf die Umwelt.

Anwendungen

Das "Hochreinigkeitsgas 99,998% Disilansil2h6" wird in einer Vielzahl von Anwendungen im Elektronikbereich verwendet:

• Herstellung von Halbleitern: als Schlüsselreaktor bei der Herstellung von Halbleitern auf Siliziumbasis, wodurch die Leistung und Effizienz des Geräts verbessert werden.
• Dünnschichtablagerung: verwendet in chemischen Dampfdeposition (CVD) Verfahren, um dünne Folien mit präziser Dicke und Gleichmäßigkeit zu erzeugen.
• Mikroelektronik: ein wesentlicher Bestandteil der Herstellung mikroelektronischer Bauteile, der zu ihrer Miniaturisierung und Funktionalität beiträgt.
• Photovoltaikzellen: wesentlich für die Herstellung von hocheffizienten Photovoltaikzellen für Solarenergieanwendungen.
• Forschung und Entwicklung: ein Grundbestandteil in Forschungs- und Entwicklungslaboratorien zur Erforschung neuer Materialien und Technologien.

Schlüsselmerkmale