Hochreines 99.998% Disilan Si2H6 Gas

Hauptmerkmale

• Ultra-Hohe Reinheit : Unser Disilangas weist einen Reinheitsgrad von 99,998 % auf und gewährleistet minimale Verunreinigungen, die die Integrität von elektronisch geräte.
• Einheitliche Qualität : Hergestellt unter strengen Qualitätskontrollprozessen bietet unser Gas eine konsistente Leistung von Chargen zu Chargen.
• Vielseitige Verpackung : In einer Vielzahl von Verpackungsoptionen erhältlich, um unterschiedliche Lagerungs- und Transportbedarf zu decken.
• Sichere Handhabung : Mit Sicherheitsfunktionen ausgestattet, um Lecks zu verhindern und sichere Handhabung während der Nutzung zu gewährleisten.
• Umweltbewusst : Engagiert in nachhaltigen Praktiken minimieren unsere Produktionsmethoden den Umweltimpact.

ANWENDUNGEN

Das „High Purity 99.998% Disilan Si2H6 Gas“ wird in einer breiten Palette von Anwendungen im Elektroniksektor eingesetzt:

• Halbleiterfertigung : Als wichtiges Reagens in der Produktion von siliziumbasierten Halbleitern, um die Geräteleistung und Effizienz zu verbessern.
• Dünnschichtauftragung : In chemischen Dampfschichtprozessen (CVD) eingesetzt, um dünne Filme mit präziser Dicke und Uniformität herzustellen.
• Mikroelektronik : Unverzichtbar bei der Herstellung von Mikroelektronikkomponenten, trägt zu ihrer Verkleinerung und Funktionalität bei.
• Photovoltaikzellen : Wesentlich für die Produktion hoch-effizienter Photovoltaikzellen für Solarenergieanwendungen.
• Forschung & Entwicklung : Ein Standard in Forschungs- und Entwicklungs-Laboren zur Erforschung neuer Materialien und Technologien.

Schlüsselmerkmale