Disilan (H6Si2) ist ein hochleistendes anorganisches Gasverbindung, das weitgehend bei der Herstellung von Halbleitern und Solarmaterialien verwendet wird. Als Schlüsselrohstoff in der Chemical Vapor Deposition (CVD)-Technologie zeichnet sich Disilan durch seine einzigartigen chemischen Eigenschaften wie niedrige Schichtbildungstemperatur, schnelle Schichtbildungsrate und exzellente Schichtqualität aus, wodurch es zu einem bevorzugten Material in der Industrie wird.
Unser Disilan-Produkt wird unter Verwendung fortschrittlicher Herstellungsverfahren hergestellt, wodurch eine hohe Reinheit und Stabilität gewährleistet wird. Durch genau kontrollierte thermische Zerlegung oder die Verwendung von Silan-Speisegas können wir Disilan-Gas herstellen, das strenge Branchenstandards erfüllt. Dieses Produkt zeichnet sich in PECVD-, LPCVD- und anderen Fertigungsprozessen hervor und verbessert effektiv die Leistung und Zuverlässigkeit der Produkte.
Beachten Sie, dass Disilan brennbar ist und in Kontakt mit Luft spontan entzünden kann, wobei möglicherweise explosive Gemische mit Luft entstehen. Daher ist es bei der Verwendung und Lagerung wichtig, streng den geltenden Sicherheitsvorschriften zu folgen und angemessene persönliche Schutzmaßnahmen zu ergreifen, um die Sicherheit und Gesundheit der Betreiber zu gewährleisten.
Unser Disilan-Produkt erfüllt nicht nur die CAS-Registrierungsnummer 1590-87-0 und die EINECS-Registrierungsnummer 216-466-5, sondern unterliegt auch einer strengen Qualitätskontrolle, um die Qualität und Konsistenz jedes Chargens zu gewährleisten. Wir sind darauf bedacht, Kunden mit hochwertigen, sicheren und verlässlichen Disilan-Produkten zu versorgen, um den wachsenden Marktbedarf zu decken.
Produktspezifikationen: