Hexachlorodisilan mit hoher Reinheit, Elektronengrad si2cl6

Hauptmerkmale

• mit einer Reinheit von: Unser Hexachlordisilan wird auf Elektronenreinheit raffiniert, wodurch minimale Verunreinigungen sichergestellt werden, die die Leistung beeinträchtigen könntenelektronischeGeräte.
• gleichbleibende Qualität: bei der Herstellung unter strengen Qualitätskontrollen garantiert unser Gas ein gleichbleibendes Ergebnis für kritische Anwendungen.
• breiter Anwendungsbereich: geeignet für eine Vielzahl von Anwendungen, vom Halbleiter-Etschen bis zur Synthese fortschrittlicher elektronischer Materialien.
• sichere Handhabung: wird mit Sicherheitsanweisungen und Verpackung versehen, um Fehlbehandlung zu verhindern und die Sicherheit der Benutzer zu gewährleisten.
• Umweltbewusstsein: wir bemühen uns, die Auswirkungen auf die Umwelt durch verantwortungsvolle Produktionspraktiken zu minimieren.

Anwendungen

"Hochreinelektronengrad si2cl6 Hexachlorodisilan" wird in folgenden Anwendungen verwendet:

• Halbleiter-Etschen: ein entscheidender Bestandteil im Ätzverfahren von Halbleiterwafern, der zur Herstellung hochwertiger integrierter Schaltungen beiträgt.
• Weiterentwickelte Materialsynthese: verwendet bei der Synthese von fortschrittlichen Materialien mit einzigartigen elektrischen und optischen Eigenschaften.
• chemische Dampfdeposition (cvd): ein wesentlicher Vorläufer in CVD-Verfahren zur Ablagerung dünner Folien mit präziser Kontrolle.
• Forschung und Entwicklung: ein Grundnahrungsmittel in Forschungs- und Entwicklungsla­boratorien zur Erforschung neuer Materialien und Technologien im Bereich der Elektronik.
• Herstellung von Photovoltaikzellen: ein wesentlicher Bestandteil der Produktion von Photovoltaikzellen, die ihre Effizienz und Leistung verbessern.

Schlüsselmerkmale