Disilana (H6Si2) adalah senyawa gas anorganik berkinerja tinggi yang secara luas digunakan dalam pembuatan bahan semikonduktor dan bahan surya. Sebagai bahan baku utama dalam teknologi Chemical Vapor Deposition (CVD), Disilana menonjol dengan sifat kimia uniknya seperti suhu pembentukan film yang rendah, laju pembentukan film yang cepat, dan kualitas film yang sangat baik, menjadikannya bahan pilihan dalam industri.
Produk Disilane kami diproduksi menggunakan proses persiapan canggih, memastikan kebersihan dan stabilitas tinggi. Melalui dekomposisi termal yang terkendali dengan presisi atau metode gas pakan silana, kami dapat memproduksi gas Disilane yang memenuhi standar industri yang ketat. Produk ini unggul dalam proses PECVD, LPCVD, dan lainnya, secara efektif meningkatkan kinerja dan keandalan produk.
Harap diperhatikan bahwa Disilane mudah terbakar dan dapat menyala sendiri saat bersentuhan dengan udara, mungkin membentuk campuran peledak dengan udara. Oleh karena itu, selama penggunaan dan penyimpanan, penting untuk mematuhi peraturan keselamatan yang relevan dan mengambil tindakan pelindung pribadi yang sesuai untuk menjamin keselamatan dan kesehatan para operator.
Produk Disilana kami tidak hanya sesuai dengan Nomor Registrasi CAS 1590-87-0 dan Nomor Registrasi EINECS 216-466-5, tetapi juga menjalani pengendalian kualitas yang ketat untuk memastikan kualitas dan konsistensi setiap batch. Kami berkomitmen untuk menyediakan pelanggan dengan produk Disilana berkualitas tinggi, aman, dan andal untuk memenuhi permintaan pasar yang meningkat.
Spesifikasi Produk: