Il disilano (H6Si2) è un composto inorganico a gas ad alta prestazione ampiamente utilizzato nella preparazione di semiconduttori e materiali solari. Come materiale grezzo chiave nella tecnologia di Deposizione Chimica a Fase Vapore (CVD), il disilano si distingue per le sue proprietà chimiche uniche, come bassa temperatura di formazione del film, rapida velocità di formazione del film e ottima qualità del film, rendendolo un materiale preferito nell'industria.
Il nostro prodotto Disilane viene prodotto utilizzando processi di preparazione avanzati, garantendo alta purezza e stabilità. Attraverso metodi di decomposizione termica o di gas di alimentazione silano controllati con precisione, possiamo produrre gas Disilane che rispettano standard industriali rigorosi. Questo prodotto si distingue nei processi di PECVD, LPCVD e altri, migliorando efficacemente le prestazioni e la affidabilità dei prodotti.
Si prega di notare che il Disilane è infiammabile e può auto-accendersi a contatto con l'aria, formando eventualmente miscugli esplosivi con l'aria. Pertanto, durante l'uso e l'archiviazione, è essenziale seguire strettamente le normative di sicurezza pertinenti e adottare misure di protezione personale appropriate per garantire la sicurezza e la salute degli operatori.
Il nostro prodotto Disilane non solo rispetta il numero di registrazione CAS 1590-87-0 e il numero di registrazione EINECS 216-466-5, ma subisce anche controlli di qualità rigorosi per garantire la qualità e la coerenza di ogni batch. Siamo impegnati a fornire ai clienti prodotti Disilane di alta qualità, sicuri e affidabili per soddisfare le crescenti esigenze del mercato.
Specifiche del prodotto: