高純度 99.998% ディシラン Si2H6ガス

主な特徴

• 超高純度 : 当社のジシランガスは純度99.998%を誇り、製品の完全性を損なう不純物を最小限に抑えています。 電子 装置
• 安定した品質 厳格な品質管理プロセスで製造された ガスで 一連の生産で一貫した性能を 提供しています
• 汎用的なパッケージ : 異なる保管と輸送ニーズに合わせて,様々なパッケージングオプションで提供されています.
• 安全な扱いに : 漏れを防止し,使用中に安全な操作を保証する安全装置を装備しています.
• 環境に配慮した 持続可能な方法にコミットし,我々の生産方法は環境への影響を最小限に抑えます.

アプリケーション

"高純度99.998%のディジランシ2h6ガス"は,電子機器分野における幅広い用途で使用される.

• 半導体製造の 半導体の生産における重要な反応剤として,デバイスの性能と効率を向上させる.
• 薄膜堆積物 : 精密な厚さと均質性のある薄膜を作成するために化学蒸気堆積 (cvd) プロセスで使用されます.
• マイクロ電子機器 電子部品の製造において不可欠であり,小型化と機能性に貢献します.
• ソーラー電池 ソーラーエネルギーアプリケーションのための高効率の太陽電池の生産に不可欠です
• 研究開発 ■ 新しい材料と技術の探求のための研究開発ラボの基本要素です

主要属性