hoog zuiverheidsniveau 99,998% disilane si2h6 gas

belangrijkste kenmerken

• ultrahoge zuiverheid: Ons Disilane-gas heeft een zuiverheidsgraad van 99,998%, waardoor er minimale onzuiverheden zijn die de integriteit van het product in gevaar kunnen brengen.elektronischeapparaten.
• consistent kwaliteit: geproduceerd onder strenge kwaliteitscontroleprocessen, levert ons gas batch na batch een consistente prestatie.
• veelzijdige verpakking: verkrijgbaar in verschillende verpakkingsmogelijkheden voor verschillende opslag- en transportbehoeften.
• veilige behandeling: voorzien van veiligheidselementen om lekkages te voorkomen en een veilige hantering tijdens het gebruik te garanderen.
• milieubewust: onze productiemethoden beperken de milieueffecten tot een minimum.

aanvragen

het "hoge zuiverheid 99,998% disilane si2h6 gas" wordt gebruikt in een breed scala aan toepassingen in de elektronica-sector:

• vervaardiging van halfgeleiders: als een belangrijke reactievermogen bij de productie van op silicium gebaseerde halfgeleiders, waardoor de prestaties en efficiëntie van het apparaat worden verbeterd.
• dunne film afzetting: gebruikt in chemische dampdepositieprocessen (CVD) om dunne films met een precieze dikte en gelijkheid te maken.
• micro-elektronica: een integraal onderdeel van de fabricage van micro-elektronica, dat bijdraagt tot de miniaturisering en de functionaliteit ervan.
• fotovoltaïsche cellen: essentieel bij de productie van hoogwaardige fotovoltaïsche cellen voor zonne-energie toepassingen.
• onderzoek en ontwikkeling: een basisonderdeel in O&O-laboratoria voor het verkennen van nieuwe materialen en technologieën.

belangrijkste kenmerken