gás si2h6 disilano de alta pureza 99,998%

Características principais

• de ultra-alta pureza: Nosso gás Disilane possui um nível de pureza de 99,998%, garantindo impurezas mínimas que podem comprometer a integridade doEletrônicodispositivos.
• qualidade consistente: fabricado sob rigorosos processos de controlo de qualidade, o nosso gás proporciona um desempenho consistente lote após lote.
• embalagem versátil: disponível em uma variedade de opções de embalagem para atender às diferentes necessidades de armazenamento e transporte.
• manuseio seguro: equipado com dispositivos de segurança para evitar fugas e garantir uma manipulação segura durante a utilização.
• consciente do ambiente: comprometidos com práticas sustentáveis, os nossos métodos de produção minimizam o impacto ambiental.

Aplicações

O "gás si2h6 disilano de alta pureza 99,998%" é utilizado numa ampla gama de aplicações no sector da electrónica:

• Fabricação de semicondutores: como reagente chave na produção de semicondutores à base de silício, melhorando o desempenho e a eficiência dos dispositivos.
• deposição de película fina: utilizado em processos de deposição química de vapor (CVD) para criar películas finas com espessura e uniformidade precisas.
• microeletrónica: integral na fabricação de componentes microeletrônicos, contribuindo para a sua miniaturização e funcionalidade.
• células fotovoltaicas: essencial na produção de células fotovoltaicas de elevada eficiência para aplicações de energia solar.
• Investigação e desenvolvimento: um elemento essencial nos laboratórios de I&D para a exploração de novos materiais e tecnologias.

Atributos-chave