Disilano (H6Si2) é um composto gasoso inorgânico de alta performance amplamente utilizado na preparação de semicondutores e materiais solares. Como matéria-prima chave na tecnologia de Deposição Química a Vapor (CVD), o Disilano se destaca com suas propriedades químicas únicas, como baixa temperatura de formação de filmes, taxa rápida de formação de filmes e excelente qualidade de filme, tornando-o um material preferido na indústria.
Nosso produto de Disilano é produzido utilizando processos avançados de preparação, garantindo alta pureza e estabilidade. Através de métodos precisamente controlados de decomposição térmica ou gás de alimentação de silano, podemos fabricar gás Disilano que atende a rigorosos padrões industriais. Este produto se destaca em processos de PECVD, LPCVD e outros, melhorando eficazmente o desempenho e a confiabilidade dos produtos.
Observe que o Disilano é inflamável e pode auto-ignifar ao entrar em contato com o ar, possivelmente formando misturas explosivas com o ar. Portanto, durante o uso e armazenamento, é essencial seguir rigorosamente as normas de segurança pertinentes e tomar medidas de proteção pessoal adequadas para garantir a segurança e saúde dos operadores.
Nosso produto Disilano não apenas atende ao Número de Registro CAS 1590-87-0 e ao Número de Registro EINECS 216-466-5, mas também passa por um rigoroso controle de qualidade para garantir a qualidade e consistência de cada lote. Estamos comprometidos em fornecer aos clientes produtos de Disilano de alta qualidade, seguros e confiáveis para atender às crescentes demandas do mercado.
Especificações do produto:
Gás Silano de Alta Pureza para Fabricação de Semicondutores
SIHCL3, SICL4 latas de 240L
Produto de gás misto de fosfina
Gás fosfina (PH3) de nível industrial para dopagem de semicondutores e síntese química
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