gaz si2h6 disilan me pastërti të lartë 99,998%

Karakteristika kryesore

• pastërti ultra të lartë: Gazi ynë Disilane krenohet me një nivel pastërtie prej 99,998%, duke siguruar papastërti minimale që mund të rrezikojnë integritetin eElektronikepajisje.
• cilësi e qëndrueshme: prodhuar nën procese të rrepta të kontrollit të cilësisë, gazi ynë siguron performancë të qëndrueshme parti pas parti.
• paketim i gjithanshëm: të disponueshme në opsione të ndryshme të paketimit për të përshtatur nevojat e ndryshme të ruajtjes dhe transportit.
• trajtim i sigurt: të pajisur me pajisje sigurie për të parandaluar rrjedhjen dhe për të siguruar trajtimin e sigurt gjatë përdorimit.
• të vetëdijshëm për mjedisin: të përkushtuar ndaj praktikave të qëndrueshme, metodat tona të prodhimit minimizojnë ndikimin në mjedis.

aplikime

"gaz si2h6 disilan me pastërti të lartë 99,998%" përdoret në një gamë të gjerë aplikacionesh në sektorin e elektronikës:

• prodhimin e gjysmëpërçuesve: si një reagent kryesor në prodhimin e gjysmëpërçuesve me bazë siliciumi, duke rritur performancën dhe efikasitetin e pajisjes.
• Depozita e filmit të hollëPërdoret në proceset kimike të depozitacionit të avullit (CVD) për të krijuar filma të hollë me trashësi të saktë dhe uniformitet.
• mikroelektronika: pjesë integrale e prodhimit të përbërësve mikroelektronikë, duke kontribuar në miniaturizimin dhe funksionalitetin e tyre.
• qelizat fotovoltaike: thelbësore në prodhimin e qelizave fotovoltaike me efikasitet të lartë për aplikimet e energjisë diellore.
• Kërkimet dhe zhvillimet: një element kryesor në laboratorët e R&D për eksplorimin e materialeve dhe teknologjive të reja.

Atributet kryesore