khí si2h6 disilan 99,998% tinh khiết cao

Các đặc điểm chính

• độ tinh khiết cực cao: Khí Disilane của chúng tôi tự hào có mức độ tinh khiết là 99,998%, đảm bảo lượng tạp chất tối thiểu có thể làm ảnh hưởng đến tính toàn vẹn củađiện tửthiết bị.
• chất lượng nhất quán: được sản xuất theo quy trình kiểm soát chất lượng nghiêm ngặt, khí của chúng tôi cung cấp hiệu suất nhất quán lô sau lô.
• bao bì đa năng: có sẵn trong nhiều lựa chọn đóng gói để phù hợp với nhu cầu lưu trữ và vận chuyển khác nhau.
• xử lý an toàn: được trang bị các thiết bị an toàn để ngăn ngừa rò rỉ và đảm bảo xử lý an toàn trong khi sử dụng.
• ý thức môi trường: cam kết thực hành bền vững, phương pháp sản xuất của chúng tôi giảm thiểu tác động môi trường.

ứng dụng

"đăng si2h6 disilan 99,998% độ tinh khiết cao" được sử dụng trong một loạt các ứng dụng trong lĩnh vực điện tử:

• Sản xuất bán dẫn: như một chất phản ứng chính trong sản xuất bán dẫn dựa trên silicon, tăng hiệu suất và hiệu quả thiết bị.
• lắng đọng phim mỏng: được sử dụng trong quá trình lắng đọng hơi hóa học (cvd) để tạo ra các tấm mỏng với độ dày và đồng nhất chính xác.
• vi điện tử: là một phần không thể thiếu trong việc sản xuất các thành phần vi điện tử, góp phần vào việc thu nhỏ và chức năng của chúng.
• pin quang điện: thiết yếu trong sản xuất pin quang điện hiệu quả cao cho các ứng dụng năng lượng mặt trời.
• nghiên cứu & phát triển: một yếu tố chủ yếu trong các phòng thí nghiệm R & D để khám phá các vật liệu và công nghệ mới.

Các thuộc tính chính