gaz si2h6 disilane à haute pureté 99,998%

Les principales caractéristiques

• d'une pureté ultra-haute:Notre gaz Disilane bénéficie d'un niveau de pureté de 99,998 %, garantissant un minimum d'impuretés qui pourraient compromettre l'intégrité deélectroniqueles appareils.
• qualité constante: fabriqué selon des processus de contrôle de qualité stricts, notre gaz offre des performances constantes lot après lot.
• emballage polyvalent: disponible dans une variété d'emballages pour répondre aux différents besoins de stockage et de transport.
• manipulation sécuritaire: équipé de dispositifs de sécurité pour éviter les fuites et assurer une manipulation sûre pendant l'utilisation.
• une prise en compte de l'environnement: engagés dans des pratiques durables, nos méthodes de production réduisent au minimum l'impact environnemental.

Les demandes

le "gaz si2h6 disilane de haute pureté 99,998%" est utilisé dans un large éventail d'applications dans le secteur de l'électronique:

• fabrication de semi-conducteurs: comme réactif clé dans la production de semi-conducteurs à base de silicium, améliorant les performances et l'efficacité des appareils.
• dépôt de film mince: utilisé dans les procédés de dépôt chimique de vapeur (CVD) pour créer des films minces d'épaisseur et d'uniformité précises.
• électronique: une composante essentielle de la fabrication des composants microélectroniques, contribuant à leur miniaturisation et à leur fonctionnalité.
• cellules photovoltaïques: essentiel dans la production de cellules photovoltaïques à haut rendement pour les applications d'énergie solaire.
• recherche et développement: un élément essentiel des laboratoires de R & D pour l'exploration de nouveaux matériaux et technologies.

Les attributs clés