Gaz Disilane Si2H6 de haute pureté 99,998%

Caractéristiques principales

• Ultra-Haute Pureté :Notre gaz Disilane bénéficie d'un niveau de pureté de 99,998 %, garantissant un minimum d'impuretés qui pourraient compromettre l'intégrité de électronique appareils.
• Une qualité constante : Fabriqué selon des processus de contrôle qualité stricts, notre gaz offre une performance cohérente d'une fournée à l'autre.
• Emballage Versatile : Disponible dans une variété d'options d'emballage pour répondre aux besoins différents de stockage et de transport.
• Manipulation Sécurisée : Equipé de caractéristiques de sécurité pour prévenir les fuites et assurer une manipulation sécurisée pendant l'utilisation.
• Conscience Environnementale : Engagé dans des pratiques durables, nos méthodes de production minimisent l'impact environnemental.

APPLICATIONS

Le "High Purity 99.998% Disilane Si2H6 Gaz" est utilisé dans un large éventail d'applications dans le secteur électronique :

• La fabrication de semi-conducteurs : En tant que réactif clé dans la production de semi-conducteurs à base de silicium, améliorant les performances et l'efficacité des appareils.
• Dépôt de Film Mince : Utilisé dans les processus de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour créer des films minces avec une épaisseur et une uniformité précises.
• Microélectronique : Indispensable dans la fabrication de composants microélectroniques, contribuant à leur miniaturisation et fonctionnalité.
• Cellules Photovoltaïques : Essentiel dans la production de cellules photovoltaïques à haute efficacité pour les applications d'énergie solaire.
• Recherche et développement : Un incontournable dans les laboratoires de R&D pour l'exploration de nouveaux matériaux et technologies.

Attributs clés