Gás si2h6 de alta pureza 99,998% disilano

Principais características

• de ultraalta pureza: O noso gas Disilane posúe un nivel de pureza do 99,998 %, garantindo impurezas mínimas que poidan comprometer a integridade doelectrónicadispositivos.
• calidade constante: fabricado baixo estritos procesos de control de calidade, o noso gas proporciona un rendemento consistente lote tras lote.
• embalaxe versátil: dispoñible en varias opcións de embalaxe para satisfacer diferentes necesidades de almacenamento e transporte.
• manipulación segura: equipado con elementos de seguridade para evitar fugas e garantir unha manipulación segura durante o uso.
• Consciente do medio ambiente: comprometidos con prácticas sustentables, os nosos métodos de produción minimizan o impacto ambiental.

aplicacións

O "gás si2h6 disilano de alta pureza 99,998%" utilízase nunha ampla gama de aplicacións no sector electrónico:

• Fabricación de semicondutores: como reactivo clave na produción de semicondutores a base de silicio, mellorando o rendemento e a eficiencia do dispositivo.
• deposición de película fina: empregadas en procesos de deposición química de vapor (CVD) para crear películas finas cun grosor e uniformidade precisos.
• microelectrónica: é unha parte fundamental na fabricación de compoñentes microelectrónicos, contribuíndo á súa miniaturización e funcionalidade.
• células fotovoltaicasA enerxía solar é esencial na produción de células fotovoltaicas de alta eficiencia para aplicacións de enerxía solar.
• Investigación e desenvolvemento: un elemento básico nos laboratorios de I+D para a exploración de novos materiais e tecnoloxías.

Atributos clave