Magas tisztaságú szilan gáz a szemiconductort gyártásra

A szilan gyártása általában a négyszórfasílicát (SiCl4) és a hidrogén gáz reakcióját tartalmazza emelt hőmérsékleten. Ez a folyamat szilant ad eredményül, valamint szenhidrogént (HCl) melléktermékként. A szilan termelni is lehet szilanok termodisszociációján keresztül vagy metális sílica reakciója során szenhidrogénnel.

Az elektronikai iparág mellett a szilan használatos szilan-kezelésű üvegszálak gyártásában, amelyek javítják a rèszek a szálakhoz való illeszkedését, így javítva a kompozitanyagok mechanikai tulajdonságait. Emellett alkalmaznak szilikonpolimeres anyagok szintézisében és csökkentő ügynöknek kémiai reakciókban.

A tűzalapi természete miatt a szilan inerts gáz feltételek között kell tárolni és szállítani az akadályozott égettetés elkerülése érdekében. Gyakran nyomású hengerekben szállítják, és szigorú biztonsági protokollok szerint kezelik a reaktivitásával kapcsolatos kockázatok csökkentése érdekében.

A szilan fontos tulajdonságai közé tartoznak:

• Kémiai képlet: ‌ SiH4
• Részecsketömeg: ‌ 32.117 g/mol
• Fürdőpont: ‌ -111.9°C
• Fuszpont: ‌ -161.2°C
• Tüzelhetőség: nagyon táplálózó, piriforikus
• Kockázat osztályozás: környezetnek kockázat, táplálózó gáz

Biztonsági intézkedések elengedhetetlenek a szilan használatakor, mivel a légkörrel való érintkezés spontán üzemelést okozhat, és a gáz bevonása káros lehet az emberi egészségre. Megfelelő ventiláció, személyes védőfelszerelés és katasztrófaesetleges reakciós terv döntő fontosságú azok számára, akik ezzel a reaktív gázzal dolgoznak.