반도체 제조용 고순도 실란 가스

실란의 생산은 일반적으로 실리콘 테트라클로라이드(SiCl4)를 고온에서 수소 기체와 반응시키는 과정을 포함합니다. 이 과정은 실란과 부산물인 염화수소(HCl)를 생성합니다. 실란은 또한 실란류의 열분해 또는 금속 실리콘과 염화수소의 반응을 통해 생산될 수 있습니다.

전자 산업에서의 응용 외에도, 실란은 수지와 섬유 사이의接着력을 향상시켜 복합 재료의 기계적 특성을 개선하는 실란 처리 유리 섬유의 생산에 사용됩니다. 또한 다양한 실리콘 중합체의 합성 및 화학 반응에서 환원제로도 사용됩니다.

자발연소성 때문에 실란은 사고적인 점화를 방지하기 위해隋기 상태에서 저장 및 운반되어야 합니다. 실란은 일반적으로 압력 탱크에 공급되며, 그 반응성과 관련된 위험을 줄이기 위해 엄격한 안전 규칙에 따라 취급됩니다.

실란의 주요 특성에는 다음이 포함됩니다:

• 화학식: ‌ SiH4
• 분자량: ‌ 32.117 g/mol
• 沸点: ‌ -111.9°C
• 融点: ‌ -161.2°C
• 연소성: ‌ 매우 연소성이 높고, 자발적으로 불이 붙을 수 있음
• 위험 등급: ‌ 환경에 유해하며, 가연성 기체

공기와 접촉 시 자발적 연소가 발생할 수 있고, 이 가스를 흡입하면 건강에 해로울 수 있으므로 실란을 다룰 때는 안전 조치가 필수적입니다. 적절한 환기, 개인 보호 장비 착용 및 비상 대응 계획은 이 반응성 가스를 취급하는 사람들에게 필수적입니다.