silanowy gaz o wysokiej czystości do produkcji półprzewodników

Produkcja silanu zazwyczaj polega na reakcji tetrachlorku krzemu (sicl4) z gazem wodorowym w podwyższonych temperaturach. Proces ten daje silan wraz z kwasem solnym (hcl) jako produkt uboczny. Silan może być również wytwarzany przez rozkład termiczny silanów lub

oprócz zastosowań w sektorze elektroniki, silan jest stosowany w produkcji włókien szklanych oczyszczonych silanem, które zwiększają przyczepność żywic do włókien, poprawiając właściwości mechaniczne materiałów złożonych. Jest również stosowany w syntezie różnych polimerów krzemowych i jako

ze względu na swoją piroforyczność silan musi być przechowywany i transportowany w warunkach gazu obojętnego, aby zapobiec przypadkowemu zapaleniu. Jest on zwykle dostarczany w butelkach pod ciśnieniem i jest obsługiwany zgodnie ze ścisłymi protokołami bezpieczeństwa w celu ograniczenia ryzyka

kluczowe właściwości silanu obejmują:

• wzór chemiczny:Sich4
• masa cząsteczkowa:32,117 g/mol
• punkt wrzenia:-111,9°c
• punkt topnienia:-161,2°C
• łatwopalność:wysoce łatwopalne, piroforyczne
• klasyfikacja zagrożenia:niebezpieczne dla środowiska, gaz łatwopalny

Środki bezpieczeństwa są najważniejsze podczas pracy z silanem, ponieważ narażenie na działanie powietrza może prowadzić do spontanicznego spalania, a wdychanie gazu może być szkodliwe dla zdrowia człowieka.