Все категории
СПЕЦИАЛЬНЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ ГАЗ

СПЕЦИАЛЬНЫЙ ЭЛЕКТРОННЫЙ ГАЗ

Газ высокой чистоты для производства полупроводников

Дисилан (H6Si2) — это высокоэффективное неорганическое газообразное соединение, широко используемое в производстве полупроводников и солнечных материалов. Как ключевое сырье в технологии химического осаждения из газовой фазы (CVD), дисилан выделяется уникальными химическими свойствами, такими как низкая температура образования пленки, быстрая скорость формирования пленки и отличное качество пленки, что делает его предпочтительным материалом в отрасли.

Введение

Наш продукт Дисилан производится с использованием передовых методов подготовки, что обеспечивает высокую чистоту и стабильность. Благодаря точно контролируемой термической декомпозиции или методам подачи газа силана мы можем производить газ дисилан, соответствующий строгим отраслевым стандартам. Этот продукт превосходно работает в процессах ПЭОП и НТХОП, эффективно повышая производительность и надежность продукции.

Обратите внимание, что дисилан горюч и может самовозгораться при контакте с воздухом, возможно образуя взрывоопасные смеси с воздухом. Поэтому во время использования и хранения необходимо строго соблюдать соответствующие нормы безопасности и принимать необходимые меры индивидуальной защиты для обеспечения безопасности и здоровья операторов.

Наш продукт Дисилан не только соответствует номеру реестра CAS 1590-87-0 и номеру реестра EINECS 216-466-5, но и проходит строгий контроль качества для обеспечения качества и последовательности каждой партии. Мы стремимся предоставить клиентам высококачественные, безопасные и надежные продукты дисилана для удовлетворения растущих рыночных потребностей.

Спецификации продукта:

  • Химическая формула: ‌ H6Si2
  • Внешний вид: ‌ Бесцветный прозрачный газ с раздражающим запахом
  • Температура плавления: ‌ -132°C
  • Температура кипения: ‌ -14.5°C (±9.0°C при 760 мм рт.ст.)
  • Плотность: ‌ 0.686 г/см³
  • Опасности: ‌ Воспламеняется (F), Вреден (Xn)
  • Фразы риска: ‌ R17 (Высоко воспламеняется), R42 (Может вызывать чувствительность при вдыхании), R20/21 (Вреден при вдыхании или контакте с кожей), R36/37/38 (Раздражает глаза, дыхательную систему и кожу)

Больше продуктов

  • Газ с высокой чистотой силана для производства полупроводников

    Газ с высокой чистотой силана для производства полупроводников

  • Канистры SIHCL3, SICL4 240 л

    Канистры SIHCL3, SICL4 240 л

  • Продукт смешанного газа фосфина

    Продукт смешанного газа фосфина

  • Промышленный газ фосфин (PH3) для легирования полупроводников и химического синтеза

    Промышленный газ фосфин (PH3) для легирования полупроводников и химического синтеза

Получить бесплатную консультацию

Наш представитель свяжется с вами в ближайшее время.
Email
Имя
Название компании
Сообщение
0/1000