Си2КЛ6 гексахлородизилан высокой чистоты

Ключевые особенности

• Ультравысокая чистота : Наш гексахлордисилан очищен до уровня электронной чистоты, что гарантирует минимальное содержание примесей, которые могут повлиять на производительность электронный устройства.
• Постоянное качество : Производится под строгим контролем качества, наш газ гарантирует стабильные результаты для критических приложений.
• Широкий диапазон применения : Подходит для широкого спектра использования, от травления полупроводников до синтеза передовых электронных материалов.
• Безопасная обработка : Поставляется с инструкциями по безопасности и упаковкой для предотвращения неправильной обработки и обеспечения безопасности пользователя.
• Сознательное отношение к окружающей среде : Мы стремимся минимизировать воздействие на окружающую среду через ответственные методы производства.

Применения

«High Purity Electron Grade Si2Cl6 Hexachlorodisilane» используется в следующих приложениях:

• Травление полупроводников : Ключевой компонент в процессе травления полупроводниковых пластин, способствующий производству высококачественных интегральных схем.
• Синтез передовых материалов : Используется при синтезе передовых материалов с уникальными электрическими и оптическими свойствами.
• Химическое парофазное осаждение (CVD) ‌: Необходимый промежуточный продукт в процессах ХДП для нанесения тонких пленок с точным управлением.
• Исследования и разработки : Широко используется в лабораториях НИОКР для исследования новых материалов и технологий в области электроники.
• Производство фотоэлементов : Ключевой элемент в производстве фотоэлементов, повышающий их эффективность и производительность.

Ключевые атрибуты